高纯度氢氟酸（HF）

产品特性

• 超高纯度：纯度≥99.9%，满足电子级、工业级多场景严苛需求。

• 蚀刻：快速溶解硅酸盐、玻璃等材质，精准控制反应效率。

• 定制化服务：提供不同浓度（40%-70%）、包装规格（槽罐车/PE桶/特氟龙容器）灵活适配。

核心应用领域
? 半导体与光伏：晶圆清洗、芯片蚀刻，助力微电子制造。
? 光学与玻璃加工：精密玻璃雕刻、光学元件抛光。
? 石油化工：烷基化催化剂，提升燃油品质。
? 表面处理：金属除锈、陶瓷加工，高效无残留。

为何选择我们？
?  安全至上：ISO认证生产，全程密闭操作，提供MSDS及专业操作指南。
?  稳定供应：万吨级产能， 物流网络支持，确保准时交付。
?  技术赋能：免费应用咨询，工程师团队提供定制化解决方案。